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- 2023-03-10 发布于北京
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本实用新型涉及一种防反溅射物剥落的靶材,所述防反溅射物剥落的靶材的上表面边缘设置有倒角,所述倒角的表面设置有第三滚花花纹区;所述防反溅射物剥落的靶材上表面边缘,由外向内依次有第二滚花花纹区以及第一滚花花纹区;所述第一滚花花纹区中的花纹为四棱台状花纹,花纹大小为10‑30TPI。本实用新型通过对靶材结构进行改进,通过分别设置的第一滚花花纹区、第二滚花花纹区以及第三滚花花纹区来吸附磁控溅射过程中产生的反溅射物,同时结构简单,便于加工,能够以较少成本达到提高靶材溅射寿命的效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213417001 U
(45)授权公告日 2021.06.11
(21)申请号 202022156696.0
(22)申请日 2020.09.27
(73)专利权人 宁波江丰电子材料股份有限公司
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