一种核酸印迹快速转膜装置.pdfVIP

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  • 2023-03-10 发布于北京
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本实用新型公开了一种核酸印迹快速转膜装置。现有转膜装置的转膜通常需要16‑18h,过程较长。本实用新型包括底板、充气仓、中间转膜平台、进气管和气源。充气仓安装在底板上。充气仓的内腔通过一根或多根进气管与气源连接。所述的中间转膜平台的底部位于充气仓内,顶部从充气仓的顶部伸出。通过增大气压的方式向缓冲液增加,从而大大缩短了转膜时间,由原来的16‑18h缩短至1.5h;此外,本实用新型的充气仓还起到了加固中间转膜平台的作用,使得转膜装置的结构更加稳固,且膜不易发生偏移。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213416860 U (45)授权公告日 2021.06.11 (21)申请号 202021809825.5 (22)申请日 2020.08.26 (73)专利权人 杭州师范大学 地址

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