原创力文档- 7
- 0
- 约4.99千字
- 约 8页
- 2023-03-10 发布于北京
- 举报
本实用新型涉及一种半导体刻蚀设备，包括腔室，过滤器和风机，所述腔室包括主体和上盖，上盖设置在主体上，所述过滤器一端与主体枢轴连接，另一端与主体可拆卸连接，过滤器包括第一辊筒，第二辊筒和过滤件，过滤件两端缠绕在第一辊筒和第二辊筒上，所述第一辊筒与电机连接，所述风机设置在上盖中，上盖设有进风口和出风口，进风口设置在上盖上方，出风口设置在上盖下方，所述过滤件设置在出风口中。本实用新型的一种半导体刻蚀设备能够通过自动更换过滤件，延长过滤器的更换时间，从而提升设备的利用效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213408042 U
(45)授权公告日 2021.06.11
(21)申请号 202022042297.1
(22)申请日 2020.09.17
(73)专利权人 昆山首佳智能科技有限公司
文档评论（0）