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本实用新型公开了一种半导体硅环刻蚀洗净装置,包括槽体,所述槽体的顶端扣合有顶盖,所述顶盖的底面固定装配有连接杆,所述连接杆的外壁套接有套环,所述套环的外壁固定装配有挂钩,所述槽体的内壁底端固定装配有托盘。通过托盘和通气槽的配合,将导管与气泵连接到一起,使用气泵通过导管和单向阀向通气槽的内部通气,气体通过导管和喷嘴喷出,能够增加槽体内部蚀刻液的流通,增加清洗的效果,通过卡块和球体的配合,通过导管和喷嘴的配合,根据半导体硅环的直径大小,转动导管,导管转动的过程中,带动球体在两个卡块之间转动,此时凸块
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213476106 U
(45)授权公告日 2021.06.18
(21)申请号 202022148935.8
(22)申请日 2020.09.27
(73)专利权人 辽宁中电科半导体材料有限公司
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