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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种正多面体多孔足跟区填充结构鞋底,包括:鞋底本体;所述鞋底本体在鞋底足跟区域填充有阵列设置的正多面体。上述的正多面体多孔填充结构鞋底,优化了鞋底的性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213582170 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022199836.2 G06T 7/136 (2017.01)
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