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泓域咨询/关于成立运算比较器电路公司实施方案  关于成立运算比较器电路公司 实施方案 xx有限责任公司  报告说明 光刻胶是光刻工艺最重要的耗材。光刻胶是一种通过特定光源照射下发生局部溶解度变化的光敏材料，主要作用于光刻环节，承担着将掩模上的图案转化到晶圆的重要功能。进行光刻时，硅片上的金属层涂抹光刻胶，掩膜上印有预先设计好的电路图案，光线透过掩膜照射光刻胶。如果曝光在紫外线下的光刻胶变为溶剂，清除后留下掩膜上的图案，此为正性胶，反之为负性胶。光刻胶可以根据曝光光源波长、显示效果和化学结构三种方式进行分类。 根据曝光波长的不同，目前市场上应用较多的光刻胶可分为g线、i线、KrF、ArF和