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品射频前端模组行业发展概况
多重因素构筑壁垒，日企垄断高端市场
光刻胶壁垒极高，主要体现在以下几个方面：1）工艺壁垒：光刻胶多用于微米和纳米级别的图形加工，因此产品品质要求极高，微粒子及金属离子含量极低，制造工艺复杂，研发和生产都有较高的技术壁垒。此外，因为应用需求众多，光刻胶品类也很多，因此需要通过调整光刻胶的配方以满足对应的需求。2）配套光刻机：光刻胶需要通过相应的光刻机进行测试和调整，目前仅有荷兰ASML集团有能力制造光刻机，但对我国实施技术封锁。国内仅有一家企业可制造光刻机，且技术水准与ASML集团仍有较大差距。3）原材料壁垒：光刻胶是主要由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂及其他助剂形
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