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本实用新型涉及一种等离子蚀刻设备,包括供气装置和等离子发生装置,供气装置包括气体混合室和至少两个输气支管道,至少两个输气支管道与气体混合室连通,气体混合室通过输气总管道与等离子发生装置连通,输气支管道上设置有气体流量控制器和第一过滤器,第一过滤器用于对对应的输气支管道内的气体进行过滤处理,输气总管道上设置有第二过滤器,第二过滤器对输气总管道内的气体进行过滤处理。通过设置第一过滤器,利用第一过滤器对混合前的气体以及混合后的气体进行过滤处理,能够避免气体将气体流量控制器内因机械摩擦形成的固体异物带入
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213781984 U
(45)授权公告日 2021.07.23
(21)申请号 202023151208.3
(22)申请日 2020.12.23
(73)专利权人 乐金显示光电科技(中国)有限公
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