实施滴液刮涂法制备晶体薄膜的制备系统.pdfVIP

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2023-03-22 发布于北京
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实施滴液刮涂法制备晶体薄膜的制备系统.pdf

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本实用新型公开了一种实施滴液刮涂法制备晶体薄膜的制备系统，包括：加热台，所述加热台用以放置待处理基板；排枪，所述排枪用以滴加晶体薄膜的前驱体溶液，所述排枪位于所述加热台的上方；刮刀，所述刮刀用以刮涂所述前驱体溶液，所述刮刀位于所述排枪相对于所述待处理基板运动方向的后方。本实用新型实施例的制备系统采用滴加和刮涂结合的方式制备，结合了刮涂和狭缝涂布的优势，制备过程简单可控，重复性能好，对大面积组件的批量制备稳定性高，适合大规模生产。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213816197 U (45)授权公告日 2021.07.27 (21)申请号 202022699585.4 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 (22)申请日 2020