一种集成电路质子直写系统.pdfVIP

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本实用新型公开了一种集成电路质子直写系统,包括总控系统、激光控制系统、X、Y偏转控制系统,总控系统将设计的图形和结构数据转换成控制数据,同时将数据传递给激光控制系统和X、Y偏转控制系统,分别控制质子束的产生、筛选和质子束X、Y向运动轨迹,将质子束按设计路径打到抗蚀材料上,从而完成刻写任务;而且使用质子束刻写,由于质子具有较高的质量,MeV级能量的质子束穿透力强,空间发散度小,刻出的刻痕更深,波动性小,能够刻写得更深、更细、更精确,可以在工件单位面积上刻写更加多的信息,并且能够刻写多层信息,具有能

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213876307 U (45)授权公告日 2021.08.03 (21)申请号 202021429323.X (22)申请日 2020.07.20 (73)专利权人 郑州中电新能源汽车有限公司

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