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- 2023-03-23 发布于北京
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本实用新型公开了一种方便清洁的接触式化学发光成像仪,涉及化学发光相关领域,为解决现有技术中的无法对成像仪进行清洗操作的问题。所述设备箱的上端设置有滑动套,所述滑动套设置有两个,所述滑动套的内部设置有滑动槽,所述滑动槽的内部设置有滑动杆,所述滑动杆与滑动槽设置为贴合,所述滑动杆上设置有套板,所述套板与滑动杆设置为贴合,所述套板上设置有拉杆,所述拉杆与套板固定连接,所述拉杆的下端设置有清洁套,所述清洁套与滑动杆固定连接,所述设备箱下端的一侧设置有支撑块,所述支撑块设置有四个,所述支撑块设置为矩形块状
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213875438 U
(45)授权公告日 2021.08.03
(21)申请号 202022572420.0
(22)申请日 2020.11.09
(73)专利权人 厦
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