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                本公开提供了研磨装置,包括研磨平台,设置有研磨垫;研磨头,位于研磨平台上方,能够相对研磨垫运动,研磨头与研磨平台之间能够承载待研磨件;第一导电层,第一导电层设置在研磨平台与研磨垫之间;第二导电层,第二导电层设置在研磨头上;供能件,供能件与第一导电层及第二导电层分别连接,以使第一导电层、研磨件及第二导电层形成电容器;以及电容测量仪,电容测量仪与电容器连接能够测量电容器的电容。本公开的研磨装置通过设置第一导电层和第二导电层以形成电容器,根据测得的电容器的电容进而得到研磨垫上各部分的厚度,且能够直观发
                    
   (19)国家知识产权局 
                             (12)实用新型专利 
                                                     (10)授权公告号 CN 218658381 U 
                                                     (45)授权公告日 2023.03.21 
   (21)申请号  202223182699.7 
   (22)申请日  2022.11.29 
   (73)专利权人 杭州富芯半导体有限公司 
      地址  3
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