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- 2023-03-24 发布于四川
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本申请一方面涉及一种镀膜装置(10),其包括:腔室(12);镀膜原料入口(14),位于腔室(12)、可连通腔室(12)内外;等离子体激发部(16),设于腔室(12);以及载送部(18),位于腔室(12)内、包括辊(28),辊(28)可被首尾相接的基材(20)卷绕、并可驱使基材(20)相对于等离子体激发部(16)运动,辊(28)驱使基材(20)运动时,基材(20)的彼此相反的第一表面(22)和第二表面(24)均可直接面对等离子体激发部(16)产生的等离子体区(26)。如此,可有利于基材(20)在镀
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218666283 U
(45)授权公告日 2023.03.21
(21)申请号 202223084490.7
(22)申请日 2022.11.21
(73)专利权人 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公
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