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本申请公开了一种栅氧化层完整性测试结构,该栅氧化层完整性测试结构包括基底、栅氧化层、栅极结构、阻挡层和介质层。其中,基底内设置有有源区;栅氧化层覆盖于基底上;栅极结构设置于栅氧化层上;阻挡层覆盖于栅氧化层和栅极结构上;介质层覆盖于阻挡层上,介质层上设置有第一接触孔、第二接触孔和第三接触孔,第一接触孔、第二接触孔和第三接触孔朝向基底的一端均设置有掺杂区,第一接触孔和第二接触孔均与有源区连接,第三接触孔与栅极结构连接。本方案可以提高GOI测试结果的准确性。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218677147 U
(45)授权公告日 2023.03.21
(21)申请号 202222998210.7
(22)申请日 2022.11.10
(73)专利权人 广州粤芯半导体技术有限公司
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