一种能实现变温并稳定控温的杜瓦.pdfVIP

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  • 2023-03-25 发布于四川
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本实用新型公开的属于制冷红外探测器技术领域,具体为一种能实现变温并稳定控温的杜瓦,其包括:冷平台;基板,安装在冷平台的上方,所述基板的上方设置有芯片;半导体制冷器,安装在所述冷平台与所述基板之间或者所述基板与所述芯片之间;测温元件,安装在基板上。该一种能实现变温并稳定控温的杜瓦,在现有液氮杜瓦冷平台上增加1个半导体制冷器,可按需求使探测器芯片制冷或制热,达到探测器芯片测试所需的工作温度,并能实现稳定控温,解决了现有的液氮杜瓦无法满足工作温度低于77K的探测器芯片测试需求。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218672755 U (45)授权公告日 2023.03.21 (21)申请号 202222897286.0 (22)申请日 2022.11.01 (73)专利权人 武汉高芯科技有限公司 地址 43

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