一种硅片沉积设备.pdfVIP

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2023-03-27 发布于北京
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一种硅片沉积设备.pdf

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本实用新型实施例提供一种硅片沉积设备，包括：加热模块、进气管路以及反应腔室；加热模块用于对预设的加热区域加热；反应腔室设置在加热区域内；进气管路包括进气端口、出气端口以及将进气端口连通至出气端口的加热管道，进气端口连通至反应腔室外部，加热管道经由出气端口与反应腔室的内部空间连通以向反应腔室输送气体，加热管道设有至少一弯曲结构，加热管道蜿蜒设置在反应腔室内。本实用新型实施例提供的硅片沉积设备，在利用化学气相沉积的方法在硅片表面制备氧化层时，在硅片表面各处沉积出厚度一致的氧化层。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213951339 U (45)授权公告日 2021.08.13 (21)申请号 202022288787.X (22)申请日 2020.10.14 (73)专利权人浙