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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型涉及的电感耦合等离子体处理装置包括：天线，根据从外部供应的高频电源而生成感应电流；窗组件，与所述天线相邻设置，将由所述天线的感应电流生成的感应电场传输至基板的工艺空间；盖组件，设置成与窗组件隔开规定间隙，用于收纳从外部供应的工艺气体，向所述工艺空间喷射所收纳的工艺气体，并阻断工艺副产物从所述工艺空间向所述窗组件流动；及密封组件，具有多个密封销和密封部件，多个所述密封销彼此隔开规定间隙并结合在所述窗组件的板面上，所述密封部件以闭环形状选择性地连接多个所述密封销，从而形成用于收纳工艺气体的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214043598 U
(45)授权公告日 2021.08.24
(21)申请号 202022798039.6
(22)申请日 2020.11.27
(73)专利权人 INVENIA 有限公司
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