一种MOCVD设备混气顶盘组件及反应装置.pdfVIP

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2023-03-29 发布于四川
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一种MOCVD设备混气顶盘组件及反应装置.pdf

本实用新型涉及一种MOCVD设备混气顶盘组件及反应装置，包括：顶盘、匀气网和匀气水冷盘；所述匀气网设置在顶盘与匀气水冷盘之间；所述顶盘与匀气网之间构成混合空腔，所述顶盘顶部设置有与混合空腔连通的第一进气管路和第二进气管路；所述匀气网下表面与匀气水冷盘上表面直接接触；所述匀气水冷盘的上表面布满多条平行排列的水道，所述水道首尾相连构成水冷槽，所述水冷槽外周及水道间隙布满匀气孔。本实用新型在匀气水冷盘中针对水冷槽进行了大圆弧度设计，使经过水冷盘后的工艺气体能够冷却，降低工艺气体之间预反应，增加MOCV

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214032683 U (45)授权公告日 2021.08.24 (21)申请号 202022754742.7 (22)申请日 2020.11.25 (73)专利权人山

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