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一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置.pdfVIP

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  • 2023-03-29 发布于四川
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一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置.pdf

    本实用新型公开了一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置，包括固定盖板和清洗固定治具，所述固定盖板为圆环结构；所述清洗固定治具包括固定盘，该固定盘中部设有冲洗孔，所述冲洗孔下面连接有转接头，所述固定盘上部设有一圈凸棱，该凸棱顶部设有容置槽，所述容置槽中安装有密封圈，所述固定盘底部四周设有支脚；所述固定盖板、清洗固定治具位于药液储存槽中。本申请清洗装置结构简单，省时省力，不需要人为操作；通过液体流量计来检测药液流量，然后根据实际使用情况气压显示调节阀调节压缩空气压力大小，进而来控制药液穿过多孔部

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213996980 U (45)授权公告日 2021.08.20 (21)申请号 202022821134.3 (22)申请日 2020.11.30 (73)专利权人 富乐德科技发展（大连）有限公司

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