用于真空镀膜设备的异向蒸发装置.pdfVIP

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  • 2023-04-04 发布于四川
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本实用新型公开一种用于真空镀膜设备的异向蒸发装置,包括蒸发源和蒸发材料导流器,蒸发源上设有镀膜材料放置槽,镀膜材料放置槽上部设有开口,蒸发材料导流器中设有导流通道,导流通道的一端与镀膜材料放置槽的开口连通,导流通道的另一端开放并朝向工件的待镀膜面。其方法是通过在蒸发源与工件之间设置蒸发材料导流器,蒸发源内的镀膜材料加热蒸发后,产生的镀膜材料蒸汽通过蒸发材料导流器进行导向,根据工件的待镀膜面所处位置改变蒸发方向,从而适应工件的多种不同输送方式。本实用新型可实现从多种不同方向对工件进行蒸发镀膜,适应

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214088642 U (45)授权公告日 2021.08.31 (21)申请号 202022909807.0 (22)申请日 2020.12.07 (73)专利权人 肇庆市科润真空设备有限公司

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