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- 2023-04-04 发布于四川
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本实用新型提供一种晶片的清洗装置，涉及半导体加工领域，该清洗装置包括：支架，驱动晶片的待清洁面在预设平面内转动；清洁刷，与晶片的待清洁面的部分区域接触，且晶片的待清洁面的旋转中心位于清洁刷与晶片的待清洁面接触的区域内；供液管路，位于晶片的待清洁面的外侧，且供液管路间隔设置有多个出液口，各出液口均朝向待清洁面，以向待清洁面喷洒清洗液；其中，待清洁面上的点距待清洁面的旋转中心越近，点被喷洒的清洗液的密度越高。这种晶片的清洗装置，能够使经过清洗后的晶片的表面有良好的一致性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214078346 U
(45)授权公告日 2021.08.31
(21)申请号 202022885479.5
(22)申请日 2020.12.03
(73)专利权人 长江存储科技有限责任公司
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