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薄膜沉积设备国产化率低 薄膜沉积设备国产化率低 我国半导体设备经过最近几年快速发展,在部分领域已有一定的进步,但整体国产设备特别在核心设备化上的国产化率仍然较低。半导体薄膜沉积设备行业基本由AMAT、ASM、Lam、TEL等国际巨头垄断。近年来随着国家对半导体产业的持续投入及部分民营企业的兴起,我国半导体制造体系和产业生态得以建立和完善。半导体薄膜沉积设备的国产化率虽然由2016年的5%提升至2020年的8%,但总体占比尤其是中高端产品占比较低。 半导体设备分类发展现状及驱动因素 以产业链应用环节来划分,半导体设备可分为前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两个大类。其中后道工艺设

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