原创力文档- 1
- 0
- 约1.15万字
- 约 9页
- 2023-04-04 发布于四川
- 举报
一种等离子刻蚀装置，包括：刻蚀腔，刻蚀腔内设置有静电吸盘和与静电吸盘相对设置的上电极，静电吸盘用于支撑并夹持待刻蚀的晶圆，所述上电极用于通入刻蚀气体并解离通入的刻蚀气体形成等离子体；所述刻蚀腔的腔室壁中设置有加热模块，加热模块用于在采用等离子刻蚀所述待刻蚀晶圆时，对所述刻蚀腔的腔室壁进行加热，以使得刻蚀过程中产生的聚合副产物更多的形成在所述待刻蚀晶圆上已形成的刻蚀孔的底部。通过在刻蚀腔的腔室壁中中设置加热模块，在进行等离子体刻蚀时，通过加热模块对刻蚀腔的腔室壁中进行高温加热，使得刻蚀腔的腔室壁表
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214099574 U
(45)授权公告日 2021.08.31
(21)申请号 202022828311.0
(22)申请日 2020.11.30
(73)专利权人 长
文档评论（0）