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本实用新型涉及纳米银导电膜领域,尤其涉及一种可降低纳米银膜通道失效率的纳米银导电膜及大尺寸纳米银电容屏。本实用新型的纳米银导电膜,导电膜上分别蚀刻有TX方向激光图案和RX方向激光图案,导电膜沿TX方向分为中间部分和边缘部分,中间部分TX方向激光图案的线距大于边缘部分TX方向激光图案的线距。本实用新型通过微扩TX方向蚀刻激光图案中间部分的线距,可在维持电流强度、不影响触控效果的条件下,弱化电流冲击对纳米银形态的破坏,可更为有效地维持纳米银线连接强度及形态,降低TX方向导电膜中部纳米银线层的失效率,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214122938 U
(45)授权公告日 2021.09.03
(21)申请号 202022850366.1
(22)申请日 2020.12.01
(73)专利权人 深圳市华科创智技术有限公司
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