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- 2023-04-04 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶圆背面清洗装置，包括清洗室，所述清洗室内设置有一旋转件，所述旋转件的中部为能够全部露出晶圆背部的待清洗区域的镂空部，所述旋转件的上表面设置有用于承托并夹紧晶圆边缘的卡盘销；所述旋转件的下方至少设置有一组间隔分布且用于喷射清洗剂的喷嘴，同一组所述喷嘴的连线在所述晶圆背部的投影过所述晶圆的旋转中心，且所述投影至少有一端抵达所述晶圆背部的待清洗区域的边缘。本实用新型所公开的晶圆背面清洗装置能够有效提高晶圆背部杂质的清洗效果，同时还能够有效提升晶圆背部杂质的清洗效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214099590 U
(45)授权公告日 2021.08.31
(21)申请号 202022807121.0
(22)申请日 2020.11.27
(73)专利权人 泉芯集成电路制造（济南）有限公
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