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物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置.pdfVIP

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  • 2023-04-05 发布于四川
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物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置.pdf

    本实用新型提供物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，涉及物理气相沉积领域。该物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，包括支撑固定底座，所述支撑固定底座的上端安装有支撑固定机架，所述支撑固定机架的前端安装有垂直限位块，所述垂直限位块的右端安装有水平限位块，所述支撑固定机架的前端安装有方向调节转盘，所述方向调节转盘的一端安装有弧形调节齿条，所述方向调节转盘远离支撑固定机架的一端安装有四组限位固定卡块，所述方向调节转盘远离支撑固定机架的一端安装有限位固定螺栓。该物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214142525 U (45)授权公告日 2021.09.07 (21)申请号 202023345489.6 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人 江苏信核芯微电子有限公司

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