一种磁控溅射靶枪.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约6.47千字
  • 约 8页
  • 2023-04-05 发布于四川
  • 举报
本实用新型提供一种磁控溅射靶枪,涉及磁控溅射领域。该磁控溅射靶枪,包括磁控溅射靶枪机箱和两组无氧铜水冷装置,所述磁控溅射靶枪机箱的前后两端均安装有支撑固定机架,所述磁控溅射靶枪机箱的左右两端均安装有一号环状磁靶,所述磁控溅射靶枪机箱的上下两端均安装有两组二号环状磁靶,所述磁控溅射靶枪机箱的上下两端均安装有连接固定底座,每组连接固定底座远离磁控溅射靶枪机箱的一端均开设有密封限位卡槽,每组密封限位卡槽的底端均开设有一号定位卡槽。该磁控溅射靶枪,能够及时有效的将磁靶运转过程中产生的热量散发出去,保证磁

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214142517 U (45)授权公告日 2021.09.07 (21)申请号 202023339513.5 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人 江苏信核芯微电子有限公司

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档