真空吸附平台及激光加工设备.pdfVIP

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2023-04-06 发布于北京
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真空吸附平台及激光加工设备.pdf

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本实用新型涉及一种真空吸附平台，其包括吸附盖板、微调单元和粗调单元。吸附盖板设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附待加工产品；微调单元与吸附盖板连接，微调单元用于微调吸附盖板沿吸附盖板的厚度方向的移动距离；粗调单元与微调单元背离吸附盖板的一侧连接，粗调单元用于粗调微调单元沿吸附盖板的厚度方向的移动距离；粗调时吸附盖板与微调单元同步移动。由于本真空吸附平台存在二级调节的共同配合，不仅大大缩短了调距所需要花费的时间，而且调节的效果更加良好，最终使得待加工产品的加工效果和加工效率均得到了明显的提高。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215393145 U (45)授权公告日 2022.01.04 (21)申请号 202120937557.3 (22)申请日 2021.04.30 (73)专利权人深