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2023-04-07 发布于北京
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一种抛光设备.pdf

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本申请公开了一种抛光设备。抛光设备中，回转输送装置具有环形输送带和若干沿着输送带排布的工装；抛光模组包括粗抛光模组和精抛光模组；粗抛光模组和精抛光模组均设于输送带的旁侧，以分别用于对产品进行粗抛光和精抛光；粗抛光模组沿输送带的输送方向设置于精抛光模组之前；清光模组数量为至少两组；沿输送带的输送方向，粗抛光模组之后和精抛光模组之后均设置有清光模组；喷蜡系统与粗抛光模组、精抛光模组和清光模组连接；控制系统与回转输送装置、粗抛光模组、精抛光模组、清光模组和喷蜡系统电连接。本申请的回转输送装置的结构布局

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215433101 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202120432709.4 B24B 41/06 (2012.01) (22)申请日 2