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半导体工艺设备及其集成供气系统.pdfVIP

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  • 2023-04-07 发布于北京
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半导体工艺设备及其集成供气系统.pdf

    本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其集成供气系统。该集成供气系统包括：底板、气路输送组件、枢转组件及锁紧组件；底板竖直设置于半导体工艺设备的柜体内；气路输送组件的顶端通过枢转组件与底板枢转连接，气路输送组件能相对于枢转组件旋转，以使气路输送组件在第一位置及第二位置之间切换；锁紧组件设置于气路输送组件朝向底板的一侧，用于当气路输送组件位于第一位置时，将气路输送组件的底端与底板锁紧，并且还用于将气路输送组件的底端与底板释放，以使气路输送组件能切换至第二位置。本申请实施例为调试及维护提供了空间，从

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215451345 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202121493353.1 (22)申请日 2021.06.30 (73)专利权人 北京七星华创流量计有限公司

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