一种硅片清洗装置.pdfVIP

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  • 2023-04-07 发布于北京
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本实用新型提供了一种硅片清洗装置,涉及硅片清洗技术领域,包括拾取机构和清洗箱,拾取机构将硅片拾取并放置在传动机构上,传动机构将硅片送入分配机构,分配机构将硅片调节为竖立状态并插入清洗篮,所述清洗篮沿清洗箱内壁上设置的导向槽运动,所述清洗箱侧壁设置有液体扇,所述清洗箱一侧设置有用于带动清洗篮脱离清洗箱的顶升机构,本实用新型清洗效率高,减少了人工参与保证了硅片质量。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215451365 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202121571586.9 (22)申请日 2021.07.12 (73)专利权人 天津西美科技有限公司

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