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- 2023-04-09 发布于四川
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本实用新型公开了一种抛光机打磨下料平台,包括治具平台以及下料支架,所述治具平台包括第一支撑部和第二支撑部,所述第一支撑部上设置有多个第一支撑槽,所述第二支撑部上设置有第二支撑槽,所述下料支架可活动的设置在所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的下料空间内,并设置有与所述第一支撑槽以及所述第二支撑槽对应的放置槽,当上料时,所述下料支架通过放置槽带动多个工件移动到相应位置,然后向下移动,直到所述第一支撑部和所述第二支撑部对工件的两端进行支撑;当下料时,所述下料支架在所述下料空间内向上移动,直到带动所述工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215470454 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202121199705.2
(22)申请日 2021.05.31
(73)专利权人 惠州市顺和鑫电子科技有限公司
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