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- 2023-04-09 发布于四川
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本申请涉及一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，涉及涂胶技术领域；其包括底座、转动连接于底座上的转盘，以及用于驱动转盘周向转动的驱动电机；所述驱动电机驱动端固定连接于转盘中心处的下表面，所述转盘上设置有定位组件，所述定位组件包括若干个限位板，所述限位板之间放置有基片，且所述基片侧壁与限位板侧壁相贴合；所述底座上方还设置有用于向基片上表面滴胶的滴胶组件；本申请具有实现对基片插设位置的快速定位，使得光刻胶均匀分布于基片上的效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215494540 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202121128038.9
(22)申请日 2021.05.24
(73)专利权人 上海富柏化工有限公司
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