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- 2023-04-09 发布于四川
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本申请公开了一种等离子体导流系统及等离子体处理装置，等离子体处理装置包括反应腔体、设置于反应腔体内的基板支撑部件，基板支撑部件包括相对设置的第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板和第二支撑板靠近基板的一侧上开设有排气孔，等离子体导流系统包括：第一导流部件以及第二导流部件，设置在第一支撑板以及第二支撑板之间，第一导流部件以及第二导流部件上均设置有开口；其中，第一导流部件与第一支撑板之间形成第一气体通道，第二导流部件与第二支撑板之间形成第二气体通道，等离子体处理结束后的气体从开口进入第一气体通道和第二气
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215496623 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202121253252.7
(22)申请日 2021.06.04
(73)专利权人 京东方科技集团股份有限公司
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