一种片上集成波导的微盘腔.pdfVIP

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  • 2023-04-09 发布于四川
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本实用新型公开了一种片上集成波导的微盘腔。该微盘腔包括:氧化硅片;氧化硅片包括硅基衬底和氧化硅半导体层;氧化硅半导体层包括功能区和非功能区;功能区包括波导结构、微盘结构及位于微盘结构内的第一开口;非功能区包括第二开口;微盘结构与第一开口构成微盘腔;第一扩展腔和第二扩展腔;第一扩展腔由第一开口沿垂直于硅基衬底所在平面的方向延伸至硅基衬底内;第二扩展腔由第二开口沿垂直于硅基衬底所在平面的方向延伸至硅基衬底内;第一扩展腔与第二扩展腔连通;波导结构和微盘结构在硅基衬底的垂直投影位于第一扩展腔和第二扩展腔

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215494219 U (45)授权公告日 2022.01.11 (21)申请号 202120675493.4 (22)申请日 2021.04.01 (73)专利权人 南京大学 地址 2

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