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一种边缘抛光设备优化结构.pdfVIP

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  • 2023-04-09 发布于四川
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一种边缘抛光设备优化结构.pdf

    本实用新型提供一种边缘抛光设备优化结构，包括:抛光件，抛光晶圆边缘；底盘，设置在所述抛光件的底部，转动所述晶圆。本实用新型的有益效果是在各个重要角度能够抛光晶圆的边缘，刚好满足抛光精度需求，既能提高工作效率、提高产能，又能减少材料浪费，降低抛光时间，抛光更加均匀，降低晶圆边缘的粗糙度，同时方便了辅料垫的更换，提高了更换辅料垫的成功率，能够有效的延长辅料垫的寿命，降低生产成本，减小晶圆与辅料垫接触面的擦伤概率，降低接触面的颗粒度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215470353 U (45)授权公告日 2022.01.11 (21)申请号 202120548691.4 (51)Int.Cl.

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