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本实用新型属于半导体蒸镀技术领域,具体涉及一种电子束蒸镀装置,包括蒸镀仓、电子束发生装置、坩埚和蒸镀架,蒸镀仓包括底仓和顶盖,底仓的底部安装有平台,平台的顶部开设有第一安装槽,电子束发生装置与坩埚之间设有磁极,第一安装槽的底部开设有第二安装槽,第二安装槽内安装有第一电机,坩埚的顶部开设有多个容纳槽,多个容纳槽内均固定安装有衬埚,顶盖的内底部固定安装有第二电机,蒸镀架包括多个支脚,多个支脚上均转动连接有圆盘,圆盘上开设有多个晶圆槽,晶圆槽内转动安装有固定环,底仓的侧壁于圆盘处设有第一齿环,圆盘的侧
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215517609 U
(45)授权公告日 2022.01.14
(21)申请号 202120974092.9
(22)申请日 2021.05.08
(73)专利权人 威科赛乐微电子股份有限公司
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