石墨基座和MOCVD设备.pdfVIP

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2023-04-13 发布于北京
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石墨基座和MOCVD设备.pdf

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本实用新型涉及外延片生产技术领域，尤其涉及一种石墨基座和MOCVD设备。该石墨基座开设有用于放置衬底的槽体，槽体形成有开口；槽体内设置有支撑部，支撑部朝向开口形成有用于与衬底接触的支撑点。该MOCVD设备包括该石墨基座。该石墨基座和该MOCVD设备，支撑部与衬底之间的接触面积相较于现有技术显著减小，从而避免衬底与支撑部接触位置的温度偏高，避免该区域的外延片波长异常，进而提高整个外延片波长的均匀性，提高良品率，降低产品滞压风险。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215628286 U (45)授权公告日 2022.01.25 (21)申请号 202121408800.9 (22)申请日 2021.06.23 (73)专利权人淮安澳洋顺昌光电技术有限公司