原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种用于单晶圆片背面清洁机构，涉及到半导体技术领域，包括清洗液回收机构、晶圆承载平台、晶圆正面清洗机构、晶圆背面清洗机构、转动轴组和晶圆定位器，其中，清洗液回收机构的内部设有一容纳腔，晶圆承载平台可升降地设于容纳腔内，在晶圆承载平台的上端还设有晶圆定位器，晶圆承载平台的下端设有转动轴组，晶圆承载平台的上端设有晶圆背面清洗机构，且晶圆背面清洗机构连接转动轴组，晶圆承载平台的上侧设有晶圆正面清洗机构。本发明能够保证晶圆片的正面以及背面的清洗的一致性，能够实现晶圆片的双面的清洗，同时也能够
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112736017 A
(43)申请公布日 2021.04.30
(21)申请号 202011630238.4
(22)申请日 2020.12.30
(71)申请人 上海至纯洁净系统科技股份有限公
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
用户编号：8063122115000010
文档评论（0）