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- 2023-04-15 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶圆单片生产用清洗装置，包括高压清洗枪，所述高压清洗枪的内侧下部设有流道，所述高压清洗枪的一侧设有与流道连通的供液管，所述流道的内侧设有导套，且导套的底端伸至高压清洗枪的下方，所述导套通过多个均匀设置的撑片与流道的内壁固定连接。本实用新型中，采用高压清洗枪对晶圆表面的淤渣进行冲洗，为避免淤渣在冲洗过程中反复摩擦晶圆表面，故在开始清洗时，调节组件处于收缩状态，此时喷出的清洗液集中在晶圆的中心，随着伸缩电机的动作传动杆逐渐下移将调节组件撑开，使得喷出的清洗液由点变为环状，并逐渐向
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215656722 U
(45)授权公告日 2022.01.28
(21)申请号 202122429853.5
(22)申请日 2021.10.09
(73)专利权人 苏州军科域光电科技有限公司
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