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- 2023-04-16 发布于四川
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本发明涉及半导体装置清洗技术领域,尤其是一种可调节化学液及高温DI水喷雾清洗装置及方法。其包括化学液储存罐和高温DI水储水罐,所述化学液储存罐内设置有第一液位计,罐壁上设置有进液口、排液口和抽液口,且顶部还设置有排气口,所述抽液口连接有增压计量泵;所述高温DI水储水罐内设置有电加热器,罐壁上设置有进水口、排水口、抽水口和第二液位计,且顶部还设置有蒸汽出口,所述抽水口连接有增压计量泵,其中:所述增压计量泵通过三通管件分别与流量计和喷淋头连接,所述流量计和喷淋头之间还设置有压力表。本发明通过设置增压
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115837369 A
(43)申请公布日 2023.03.24
(21)申请号 202210167184.5
(22)申请日 2022.02.23
(71)申请人 思恩半导体科技(苏
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