测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法.pdfVIP

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2023-04-21 发布于四川
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测量图案均匀性的装置和方法以及制造掩模的方法.pdf

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提供了测量图案均匀性的装置和方法，以及通过使用该测量方法制造掩模的方法。该测量装置包括被配置为生成并输出光的光源，被配置为支撑测量目标的平台，被配置为将从光源输出的光传送到支撑在平台上的测量目标的光学系统，以及被配置为检测由测量目标反射并衍射的光或者通过穿过测量目标而衍射的光的第一检测器，其中第一检测器被配置为检测光瞳平面的光瞳图像，并且基于光瞳图像的零阶光和一阶光中的至少一个的强度来测量测量目标的阵列区域的图案均匀性。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113900357 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202110653917.1 (22)申请日 2021.06.11 (30)优先权数据 10-2020-0