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掺杂极性层及并入有掺杂极性层的半导体装置.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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掺杂极性层及并入有掺杂极性层的半导体装置.pdf

    所公开的技术大体上涉及铁电材料及半导体装置，且更特定来说，涉及并入有掺杂极性材料的半导体存储器装置。在一个方面中，一种半导体装置包括电容器，所述电容器又包括极性层，所述极性层包括掺杂有掺杂剂的基底极性材料。所述基底极性材料包含一或多个金属元素及氧或氮中的一或两者。所述掺杂剂包括不同于所述一或多个金属元素的金属元素且以一浓度存在，使得所述电容器的铁电切换电压与具有未掺杂所述掺杂剂的所述基底极性材料的所述电容器的铁电切换电压相差超过约100mV。电容器堆叠另外包括所述极性层的相对侧上的第一结晶导电氧

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113892155 A (43)申请公布日 2022.01.04 (21)申请号 202080039183.1 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限

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