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图形制造方法及图形基板.pdfVIP

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  • 2023-04-22 发布于北京
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图形制造方法及图形基板.pdf

    本发明提供了图形制造方法包括：对所述光刻胶薄膜进行图形化处理，使所述金属薄膜的部分顶面暴露以得到金属暴露顶面，然后采用离子轰击工艺对所述金属暴露顶面进行处理，以在所述光刻胶薄膜内形成N个金属硬掩膜条，使去除所述光刻胶薄膜后，以所述N个金属硬掩膜条为掩膜，顺次刻蚀所述硬掩膜和所述目标薄膜，并以所述目标薄膜的顶面为停止位置去除每个所述初始目标图形的部分图形，从而得到设置于所述衬底顶面的若干目标图形，工艺简单易控制，解决了生产小尺寸图形成本高、生产效率低、制作工艺复杂的问题。本发明还提供了通过所述图形

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113948372 A (43)申请公布日 2022.01.18 (21)申请号 202111211801.9 (22)申请日 2021.10.18 (71)申请人 上海集成电路研发中心有限公司

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