用于测量微结构中的横向深度的方法和装置.pdfVIP

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2023-04-22 发布于四川
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用于测量微结构中的横向深度的方法和装置.pdf

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本发明的方法应用光谱测量来确定微结构的侧壁中的横向凹陷深度。该结构被形成在更大的衬底上且该侧壁相对于该衬底处于直立位置，并且该凹陷与该衬底基本上平行地延伸。该凹陷可以是蚀刻深度。能量束被定向在该结构处。落在该结构上的入射束产生光谱响应。该响应包括与该衬底以及该结构的一个或多个材料相关的一个或多个峰值。从所述一个或多个峰值中导出表示横向凹陷深度的参数，所述参数具有先前确立的与所述深度的一对一关系。使用先前确立的关系来从所测得的参数中导出该深度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113937022 A (43)申请公布日 2022.01.14 (21)申请号 202110789468.3 (22)申请日 2021.07.13 (30)优先权数据