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等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法.pdfVIP

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  • 2023-04-23 发布于北京
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等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法.pdf

    本发明涉及一种等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法；气流调节盖包含顶盖、环形的底盘、两者之间至少一层环形的板体；顶盖与板体之间的空隙、相邻板体之间的空隙、板体与底盘之间的空隙，分别形成环形侧向通道，使抽气通道内的气体，得以由位置较低的边缘区域流向位置较高的内侧区域，再流向底盘中间的开口，之后进入气流调节阀的开口并被排气泵抽走。至少各板体的底面为向下向外倾斜的斜面，能对下游返回的冲击气流及其携带的杂质颗粒等进行阻挡。在通过改变气流调节阀的阀板开度，对反应腔进行压力转换的过程中，本发明可

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113990730 A (43)申请公布日 2022.01.28 (21)申请号 202010731384.X (22)申请日 2020.07.27 (71)申请人 中微半导体设备（上海）股份有限公

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