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本发明公开了一种自支撑衬底的制备方法，包括：制备薄膜基底结构，所述薄膜基底结构包括依次层叠的第一衬底层、薄膜层和第二衬底层；将所述第一衬底层从所述薄膜层上剥离；在远离所述第二衬底层的所述薄膜层的一面继续生长与所述薄膜层材料相同的材料，以制备厚膜层；将所述第二衬底层从所述厚膜层上剥离，保留所述厚膜层。本发明提出的自支撑衬底的制备方法，可以在更大直径的衬底上生长薄膜，而薄膜因为厚度很薄所以不会造成薄膜和/或衬底的破裂，因此可以获得直径很大的薄膜，进而最终获得大尺寸的自支撑厚膜衬底。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113972128 A
(43)申请公布日 2022.01.25
(21)申请号 202010718502.3
(22)申请日 2020.07.23
(71)申请人 乂馆信息科技（上海）有限公司
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