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含钨金属膜可通过电沉积而沉积于半导体衬底的凹入特征中。含钨金属膜在一定条件下电沉积,使得含钨金属膜不含或基本上不含氧化物。在电沉积期间,除其他参数外尤其对pH、钨浓度及电流密度进行条件优化。含钨金属膜可包括钴钨合金、钴镍钨合金或镍钨合金,其中含钨金属膜中的钨含量介于约1‑20原子%之间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114008251 A
(43)申请公布日 2022.02.01
(21)申请号 202080046980.2 乔纳森 ·大卫 ·里德
(22)申请日 202
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