图案化材料和图案化薄膜.pdfVIP

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2023-04-25 发布于北京
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本申请提供一种图案化材料，包括聚硅氧烷，所述聚硅氧烷包括至少一个由Si‑O键重复构成的环状结构和连接在所述环状结构中的Si原子上的有机基团；其中，至少一个所述环状结构中的部分Si原子被金属元素取代，和/或至少一个所述有机基团包含卤族元素。本申请图案化材料在1nm～15nmX射线照射下，具有高敏感性、高图案分辨率，可实现高质量、高效率图案化工艺。将本申请图案化材料用于芯片等电子元器件的制备，可提高电子元器件精度和制备效率。本申请还提供了采用该图案化材料形成的图案化薄膜。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114063389 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202010761964.3 (22)申请日 2020.07.31 (71)申请人华为技术有限公司地址