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离子作用多功能蒸发溅射源.pdfVIP

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  • 2023-04-25 发布于北京
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离子作用多功能蒸发溅射源.pdf

    本发明公开了一种离子作用多功能蒸发溅射源，其中，所述离子作用多功能蒸发溅射源包括基座，以及堆叠设置于所述基座上的磁场分布组件、水冷组件、气体供给组件和阴极组件，所述磁场分布组件用于给所述阴极组件提供磁场；所述气体供给组件用于向所述阴极组件内供给反应气体或者惰性气体。本申请公开的蒸发溅射源工作时，通过气体供给组件向阴极组件内供气，通过阴极组件内部产生放电使进入阴极组件的气体发生电离，从而与靶材反应，有利于蒸发成膜，提高镀膜效果。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114032520 A (43)申请公布日 2022.02.11 (21)申请号 202111353006.3 (22)申请日 2021.11.16 (71)申请人 哈尔滨工业大学（深圳）

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